CHEMISORPTION OF ATOMIC AND MOLECULAR-OXYGEN ON THE (100) SURFACE OF SILICON - A THEORETICAL-STUDY

Barone, V; Lelj, F; Russo, N; Toscano, M

doi:10.1016/0039-6028(85)90900-8

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CHEMISORPTION OF ATOMIC AND MOLECULAR-OXYGEN ON THE (100) SURFACE OF SILICON - A THEORETICAL-STUDY / BARONE V; LELJ F; RUSSO N; TOSCANO M. - In: SURFACE SCIENCE. - ISSN 0039-6028. - 162:1-3(1985), pp. 230-238.

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: http://hdl.handle.net/11384/4571

Titolo:	CHEMISORPTION OF ATOMIC AND MOLECULAR-OXYGEN ON THE (100) SURFACE OF SILICON - A THEORETICAL-STUDY
Autori interni:	BARONE, Vincenzo
Data di pubblicazione:	1985
Rivista:	SURFACE SCIENCE
Handle:	http://hdl.handle.net/11384/4571
Appare nelle tipologie:	1.1 Articolo in rivista

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